Рентгеновская литография может бросить вызов ASML и TSMC: ажиотаж вокруг американского стартапа Substrate
Полупроводниковая отрасль стоит на пороге важного технологического перелома. Пока традиционная экстремально-ультрафиолетовая литография (EUV) с длиной волны 13,5 нм остаётся основной технологией при производстве передовых микросхем, на горизонте появились альтернативные методы. Один из самых перспективных среди них — рентгеновская литография (XRL), использующая излучение с длиной волны менее 4 нм, что потенциально обеспечивает значительно более высокое пространственное разрешение. Однако сама рентгеновская литография — не новая идея. Её впервые предложили ещё в 1970-х годах как способ повысить разрешение по сравнению с классическими фотолитографическими технологиями. В последующие десятилетия несколько компаний из производственного сектора вели исследования в этой области, но к 1990-м годам почти все отказались от них: технологические барьеры оказались слишком высокими, а EUV быстрее превратилась в практичное промышленное ......
AWS выпустила чип Trainium3, чтобы бросить вызов доминированию Nvidia в области искусственного интеллекта Облачный гигант утверждает, что его новейший ИИ-чип обеспечивает более высокую энергоэффективность, улучшенную производительность и доступность для р ...
Теплая осень отсрочила ажиотаж вокруг покупки новогодних украшений Только в начале ноября жители России стали активно покупать елочные игрушки и иную новогоднюю атрибутику, заявили «Известиям» представители маркетпле ...